高精度激光陀螺腔体化学抛光工序中的清洗方法

摘要

本发明属于微晶玻璃光学冷加工(铣、磨等)表面化学抛光(化学刻蚀)后清洗技术，涉及对名称为《高精度激光陀螺腔体化学抛光方法》(申请号为200510001541.7)国防专利申请的改进。它包括化学抛光步骤，在化学抛光步骤后，用压强为0.3MPa～0.5MPa的高压自来水射流清洗毛细孔2min～4min，然后吹干；重复上述过程直至满足化学抛光时间。本发明方法使被抛光面的亮度及粗造度(Ra)显著提高，可从0.3微米提高至0.1微米；在同样的条件下，化学抛光后表面粗糙度Ra和亮度比俄罗斯有了较大幅度的提高，目视基本达到美国陀螺水平。