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公开/公告号CN104209862B
专利类型发明专利
公开/公告日2017-01-11
原文格式PDF
申请/专利权人 广东工业大学;
申请/专利号CN201410424335.6
发明设计人 潘继生;阎秋生;路家斌;
申请日2014-08-26
分类号B24B53/013(20060101);
代理机构44102 广州粤高专利商标代理有限公司;
代理人林丽明
地址 510006 广东省广州市番禺区广州大学城外环西路100号
入库时间 2022-08-23 09:50:59
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-01-11
授权
2015-01-07
实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 53/013 申请日:20140826
实质审查的生效
2014-12-17
公开
机译: 抛光垫修整器,抛光装置和抛光垫修整方法
机译: 抛光垫修整器及其制造方法,抛光垫修整装置及抛光系统
机译:通过抛光垫表面分析研究抛光机理(第二次报告):在不进行修整的抛光过程中抛光垫表面状况的分析
机译:基于Dove Prism接触图像分析的抛光垫表面纹理定量评估方法的研究:-修整器粒度对抛光垫表面纹理的影响
机译:抛光垫表面纹理定量评估方法的发展-抛光垫表面纹理对抛光速率的影响
机译:使用新型双面研磨机对磁盘基质进行超光滑抛光的抛光剂寿命
机译:使用总体平衡模型对化学机械抛光中的垫磨损和垫修整进行建模。
机译:高效抛光超光滑表面的新型圆盘流体动力抛光工艺和工具
机译:开发具有自生孔隙率的抛光垫:使用超分散钻石对脆性材料进行纳米抛光
机译:低温染料对低温超抛光镜和超抛光四方晶体微天平的影响