用主动式环形抛光机加工超光滑平面镜基片

摘要

本文对主动式环形抛光原理进行分析,揭示抛光盘与零件在不同转速比下零件的运动规律分析,分析了零件在不同转速比、偏心距的情况下的相对磨削量,并定性总结出它们之间的关系.在试验中结合设备功能特点,从修正板的制作、抛光胶的配置与刻槽、抛光粉的选择等方面进行探讨,加工的平面镜基片表面粗糙度达到2.2(A),面型优于λ/20,取得了较好的效果。