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一种利用电场清除薄膜电致发光器件发光层中缺陷的方法

摘要

一种利用电场清除薄膜电致发光器件发光层中缺陷的方法,首先确定用于清除薄膜电致发光器件发光层中缺陷的电场的最小值Vmin和最大值Vmax,然后,采用下面的办法清除缺陷,a)给器件施加电压V=Vmin,并使该施加电压在约0.2秒内自由衰减为施加电压的15%;b)给器件施加电压V的值提高20%,重复上面的a步骤,接着在提高电压20%,重复上面的a步骤,直至电场电压接近Vmax为止。经过该办法处理后,器件稳定性增强,亮度电流曲线变陡。

著录项

  • 公开/公告号CN103646878B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-01-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 鲁东大学;

    申请/专利号CN201310723466.X

  • 发明设计人 曲崇;李宏光;

    申请日2013-12-25

  • 分类号H01L21/322(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 264025 山东省烟台市芝罘区世学路184号鲁东大学

  • 入库时间 2022-08-23 09:50:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-01-25

    授权

    授权

  • 2014-05-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/322 申请日:20131225

    实质审查的生效

  • 2014-03-19

    公开

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