首页> 中国专利> 半导体器件生产用膜、半导体器件生产用膜的生产方法和半导体器件的生产方法

半导体器件生产用膜、半导体器件生产用膜的生产方法和半导体器件的生产方法

摘要

本发明涉及半导体器件生产用膜、半导体器件生产用膜的生产方法和半导体器件的生产方法。本发明涉及半导体器件生产用膜,其包括:隔离膜;和多个粘贴粘合剂层的切割带,所述多个粘贴粘合剂层的切割带各自包括切割带和层压在切割带上的粘合剂层,所述粘贴粘合剂层的切割带以粘合剂层粘贴至隔离膜的方式以预定间隔层压在隔离膜上,其中所述隔离膜具有沿切割带的外周形成的切口,和切口的深度为不超过所述隔离膜厚度的2/3。

著录项

  • 公开/公告号CN102347264B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-12-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日东电工株式会社;

    申请/专利号CN201110185003.3

  • 发明设计人 高本尚英;志贺豪士;浅井文辉;

    申请日2011-06-30

  • 分类号

  • 代理机构北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘新宇

  • 地址 日本大阪府

  • 入库时间 2022-08-23 09:50:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-12-21

    授权

    授权

  • 2013-03-13

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/68 申请日:20110630

    实质审查的生效

  • 2012-02-08

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号