等离子体边界限制器单元和用于处理基板的设备

摘要

本发明涉及等离子体边界限制器单元和用于处理基板的设备。提供了一种用于处理基板的设备。该设备包括设置在处理室内以围绕在支撑单元上面限定的排放空间的等离子体边界限制器单元。该等离子体边界限制器单元包括沿着排放空间的圆周设置的多个板，所述多个板沿着排放空间的圆周相互间隔开，使得排放空间内的气体通过在相邻板之间提供的通道而流到排放空间外面。