法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-04-17
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/768 授权公告日:20160928 终止日期:20190429 申请日:20140429
专利权的终止
2016-09-28
授权
授权
2016-09-28
授权
授权
2014-12-03
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/768 申请日:20140429
实质审查的生效
2014-12-03
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/768 申请日:20140429
实质审查的生效
2014-07-30
公开
公开
2014-07-30
公开
公开
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机译: 电介质的制造方法,具有自生孔的电介质,用于多孔电介质的单体,聚邻羟基酰胺的制备方法,多聚苯并恶唑的制备方法和电子元件的制备方法
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