公开/公告号CN1214930C
专利类型发明授权
公开/公告日2005-08-17
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学院长春应用化学研究所;
申请/专利号CN03138306.8
申请日2003-05-23
分类号B41M5/00;
代理机构
代理人
地址 130022 吉林省长春市人民大街5625号
入库时间 2022-08-23 08:57:58
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-07-22
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2005-08-17
授权
授权
2004-07-07
实质审查的生效
实质审查的生效
2004-05-05
公开
公开
机译: 从图案化光刻胶到材料的图案转移的半导体加工方法
机译: 将图案从图案化的光刻胶转移到材料的半导体加工方法
机译: 将图案从图案化的光致抗蚀剂转移至材料的半导体加工方法以及包括氮化硅的结构