首页> 中国专利> 在种子层之上形成互连结构的半导体器件和方法

在种子层之上形成互连结构的半导体器件和方法

摘要

本发明涉及在种子层之上形成互连结构的半导体器件和方法。一种半导体器件具有半导体管芯,在管芯之上形成有第一导电层。在管芯之上形成第一绝缘层,第一绝缘层中的第一开口被设置在第一导电层之上。在第一绝缘层之上并进入到第一导电层之上的第一开口中形成第二导电层。通过在第一绝缘层之上形成具有小于第一开口的宽度的第二开口的第二绝缘层并向第二开口中沉积导电材料来构造互连结构。该互连结构可以是导电柱或导电焊盘。互连结构具有比第一开口的宽度小的宽度。去除第一开口外面的第一绝缘层之上的第二导电层,同时留下互连结构下面的第二导电层。

著录项

  • 公开/公告号CN102842531B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-09-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 新科金朋有限公司;

    申请/专利号CN201210207020.7

  • 发明设计人 W.K.蔡;P.C.马里穆图;

    申请日2012-06-21

  • 分类号H01L21/768(20060101);H01L23/528(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人马永利;李浩

  • 地址 新加坡新加坡市

  • 入库时间 2022-08-23 09:46:56

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-02-04

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L21/768 登记生效日:20200113 变更前: 变更后: 申请日:20120621

    专利申请权、专利权的转移

  • 2020-02-04

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L21/768 变更前: 变更后: 申请日:20120621

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2016-09-07

    授权

    授权

  • 2016-09-07

    授权

    授权

  • 2014-07-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/768 申请日:20120621

    实质审查的生效

  • 2014-07-23

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/768 申请日:20120621

    实质审查的生效

  • 2012-12-26

    公开

    公开

  • 2012-12-26

    公开

    公开

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