公开/公告号CN104178747B
专利类型发明专利
公开/公告日2016-08-24
原文格式PDF
申请/专利权人 理想晶延半导体设备(上海)有限公司;
申请/专利号CN201310198956.2
申请日2013-05-24
分类号C23C16/455(20060101);
代理机构11319 北京润泽恒知识产权代理有限公司;
代理人黄海霞
地址 201203 上海市张江高科技园区居里路1号2幢302室
入库时间 2022-08-23 09:45:49
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-24
授权
授权
2014-12-31
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20130524
实质审查的生效
2014-12-03
公开
公开
机译: 金属有机化学气相沉积系统反应器的气体喷淋
机译: 预防性喷淋阀组件相关的干喷淋器装置和防火喷淋器系统
机译: 用于金属有机化学气相沉积的装置,包括具有上下盖的反应器,具有基座的晶片施加单元,加热单元,旋转驱动单元,具有气体供应连接的气体供应单元和气体输出单元