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金属有机化学气相沉积装置、气体喷淋组件及其气体分配的控制方法

摘要

本发明涉及一种金属有机化学气相沉积装置、气体喷淋组件及其气体分配的控制方法,所述气体喷淋组件包括第一进气管路、第二进气管路和第三进气管路,用于分别将第一气体、第二气体和第三气体传输至气体分配单元,所述气体分配单元为一体成型的单层结构,所述气体分配单元包括间隔设置的A型气体分配腔,B型气体分配腔和C型气体分配腔,分别用于分配所述第一气体、第二气体和第三气体,且所述间隔设置在水平面与垂直面截面皆为连续迂回截面。本发明使得可以调节两种反应气体的气体分配腔的数量,在单一反应单元内实现了多种材料生长。本发明分配单元为一体成型的单层结构,避免了多层、多点焊接的复杂加工,极大降低了制造成本。

著录项

  • 公开/公告号CN104141116B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2017-04-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 理想晶延半导体设备(上海)有限公司;

    申请/专利号CN201310167085.8

  • 发明设计人 马悦;萨尔瓦多;奚明;

    申请日2013-05-08

  • 分类号C23C16/455(20060101);C23C16/30(20060101);C23C16/52(20060101);

  • 代理机构11319 北京润泽恒知识产权代理有限公司;

  • 代理人黄海霞

  • 地址 201203 上海市张江高科技园区居里路1号2幢302室

  • 入库时间 2022-08-23 09:54:36

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-04-05

    授权

    授权

  • 2014-12-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20130508

    实质审查的生效

  • 2014-11-12

    公开

    公开

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