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一种基于输尿管肾盂镜的肾内压监测系统

摘要

本实用新型提供一种基于输尿管肾盂镜的肾内压监测系统,包括内窥镜、处理模块和显示屏,内窥镜包括弯曲部和前端部,前端部设有摄像组件,前端部的后端连接于弯曲部,前端部的后端的侧面设有压力传感器,压力传感器的外侧盖设有高分子膜层,压力传感器、摄像组件与处理模块电连接,处理模块与显示屏电连接。本实用新型通过将压力传感器设置在前端部靠近弯曲部的后端侧面,能避免前端部的前端区域中常出现的水流扰动情况,保证水压监测的准确度,同时在压力传感器外侧盖设有高分子膜层,保护压力传感器的耐用性,可以重复使用,方便反复消毒。通过压力传感器将肾盂内的水压转换成电信号,并通过处理模块处理后在显示屏中显示出来,实现实时监测。

著录项

  • 公开/公告号CN217138049U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-08-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202123363001.7

  • 发明设计人 王飞龙;谭文;

    申请日2021-12-28

  • 分类号A61B5/03(2006.01);A61B1/307(2006.01);G08B21/18(2006.01);G08B7/06(2006.01);

  • 代理机构广州三环专利商标代理有限公司 44202;

  • 代理人侯丽燕

  • 地址 519000 广东省珠海市南屏科技工业园屏西十路6号厂房B栋4楼

  • 入库时间 2022-09-06 01:36:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-08-09

    授权

    实用新型专利权授予

说明书

技术领域

本实用新型属于医疗器械技术领域,尤其涉及一种基于输尿管肾盂镜的肾内压监测系统。

背景技术

在进行输尿管软镜激光碎石过程中,需要不间断地往肾内注水,以保证手术安全。而在手术过程中,肾内压需要维持在一个安全范围内,如果肾内压过大,会导致人体发热、器官损坏等不良后果,但是在目前的现有技术中,一般是医生根据自身经验调节向肾内注水的速度,以此来控制肾内的水压力,但是这种方式存在过度注水的隐患,严重影响人体健康,同时由于进行激光碎石手术过程需要不间断注水,由于流水冲压影响,让实时监测肾内压力成为难点。因此,亟需解决目前无法实时监测肾内水压力的问题。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种基于输尿管肾盂镜的肾内压监测系统,主要用于解决现有技术中无法实时监测肾内压所导致的一系列问题。

为解决上述问题,本实用新型所采用的技术方案如下:

本实用新型提供一种基于输尿管肾盂镜的肾内压监测系统,包括内窥镜、处理模块和显示屏,所述内窥镜包括弯曲部和前端部,所述前端部设有摄像组件,所述前端部的后端连接于所述弯曲部,所述前端部的后端的侧面设有压力传感器,所述压力传感器的外侧盖设有高分子膜层,所述压力传感器、所述摄像组件与所述处理模块电连接,所述处理模块与所述显示屏电连接。

进一步地,所述高分子膜层为防水软性高分子膜层。

进一步地,所述高分子膜层厚度为0.05~0.2mm。

进一步地,所述摄像组件包括摄像头和至少一个LED灯,所述摄像头和所述LED灯与所述处理模块电连接。

进一步地,所述压力传感器、摄像头和LED灯分别通过导线与所述处理模块电连接,所述导线设于所述内窥镜的内部通道。

进一步地,所述压力传感器的采样时间周期为0.5s,所述压力传感器将采集的压力信号通过所述处理模块转换处理后传输至所述显示屏,所述显示屏用于显示所述压力传感器的实测值。

进一步地,还包括声光报警模块,所述声光报警模块与所述处理模块电连接,所述声光报警模块被配置为根据所述压力传感器的实测值与所述处理模块的预设压力阈值的大小关系而发出声光信号。

相比现有技术,本实用新型的有益效果在于:

通过在输尿管软景的弯曲部与先端部之间设置压力传感器,利用压力传感器实时监测肾内压情况,同时将压力传感器设置在前端部靠近弯曲部的后端侧面,能避免前端部的前端区域中常出现的水流扰动情况,保证水压监测的准确度,同时在压力传感器外侧盖设有高分子膜层,保护压力传感器的耐用性,可以重复使用,方便反复消毒;

通过压力传感器将肾盂内的水压转换成电信号,并通过处理模块处理后在显示屏中显示出来,实现实时监测,还能进行实测值的安全监控,当实测值超过预设压力阈值时,声光报警模块发出声光信号,方便医生控制肾内压。

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明。

附图说明

利用附图对本实用新型作进一步说明,但附图中的实施例不构成对本实用新型的任何限制,对于本领域的普通技术人员,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据以下附图获得其它的附图。

图1是本实用新型的一种基于输尿管肾盂镜的肾内压监测系统中内窥镜的结构示意图。

图2是本实用新型的内窥镜中弯曲部和前端部的连接状态内部结构示意图。

图3是本实用新型的一种基于输尿管肾盂镜的肾内压监测系统的连接框图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中,当描述到特定器件位于第一器件和第二器件之间时,在该特定器件与第一器件或第二器件之间可以存在居间器件,也可以不存在居间器件。当描述到特定器件连接其它器件时,该特定器件可以与所述其它器件直接连接而不具有居间器件,也可以不与所述其它器件直接连接而具有居间器件。

对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论,但在适当情况下,所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。

参照图1至图3,在本实施例中公开了一种基于输尿管肾盂镜的肾内压监测系统,包括内窥镜10、处理模块20和显示屏30,内窥镜10包括弯曲部11和前端部12,前端部12设有摄像组件,前端部12连接于弯曲部11,弯曲部11能实现弯曲,进而带动前端部12移动,前端部12的后端与弯曲部11连接,在前端部12的后端侧面处设有压力传感器13,通过将压力传感器13设置在前端部12的后端,能有效避免压力传感器13受到前端部12的前端区域中常出现的水流扰动的影响,因为前端部12的前端区域一般会进行手术操作,例如激光碎石、套石篮操作等,手术操作过程中会产生水流扰动,如果将压力传感器13设置在此前端区域,则会水压检测不准,影响医生判断,而之所以将压力传感器13设置在前端部12的后端,因为此封装位置相对水流稳定,压力受外部因素影响波动小,有利于实时监测肾内压,准确度高。

另外地,在压力传感器13朝向人体一侧的外侧盖设有高分子膜层14,高分子膜层14具有保护压力传感器13的作用,方便反复消毒,可以重复使用,耐用性强。特别地,高分子膜层14为防水软性高分子膜层14,高分子膜层14厚度为0.05~0.2mm,其中高分子膜层14厚度优选为0.1mm。

更详细地,压力传感器13、摄像组件与处理模块20电连接,处理模块20与显示屏30电连接,压力传感器13的采样时间周期为0.5s,通过压力传感器13将肾盂内的水压转换成电信号,通过导线17将电信号传输至处理模块20,在通过处理模块20分析处理后在显示屏30中显示出来,显示屏30显示压力传感器13的实测值,显示屏30实时显示检测压力值,实现实时监测。

在本实施例中,摄像组件包括摄像头15和至少一个LED灯16,摄像头15和LED灯16与处理模块20电连接;具体地,压力传感器13、摄像头15和LED灯16分别通过导线17与处理模块20电连接,导线17设于内窥镜10的内部通道,压力传感器13、摄像头15和LED灯16的导线17在内窥镜10内部通道汇聚成一股,集中走线,并连接于处理模块20。

结合图3,作为一种实施方式,还包括声光报警模块,声光报警模块与处理模块20电连接,声光报警模块被配置为根据压力传感器13实测值与处理模块20的预设压力阈值的大小关系而发出声光信号,需要说明的是,为了保证监测的实时性,压力传感器13的压力采样间隔设为0.5秒,在处理模块20中先预设有压力阈值,这个压力阈值为人体肾内压的警戒值,当压力传感器13实测值超过此压力阈值时,声光报警模块发出声光信号,声光报警模块可以设置在显示屏30中,直接将压力显示值设成跳动的红色字体,还发出警报声,引起医生警戒,方便医生控制肾内压。

综上,相对于现有技术,上述实施例提供一种基于输尿管肾盂镜的肾内压监测系统,将压力传感器13设置在前端部12靠近弯曲部11的后端侧面,能避免前端部12的前端区域中常出现的水流扰动情况,保证水压监测的准确度,同时在压力传感器13外侧盖设有高分子膜层14,保护压力传感器13的耐用性,可以重复使用,方便反复消毒;

通过压力传感器13将肾盂内的水压转换成电信号,并通过处理模块20处理后在显示屏30中显示出来,实现实时监测,还能进行实测值的安全监控,当实测值超过预设压力阈值时,声光报警模块发出声光信号,方便医生控制肾内压。

上述实施方式仅为本实用新型的优选实施方式,不能以此来限定本实用新型保护的范围,本领域的技术人员在本实用新型的基础上所做的任何非实质性的变化及替换均属于本实用新型所要求保护的范围。

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