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一种Si基GaN HEMT的空气桥场板结构

摘要

本实用新型公开的一种Si基GaNHEMT的空气桥场板结构,包括Si衬底、GaN缓冲层、AlGaN势垒层、源极、漏极、栅极、SiN钝化层以及空气桥场板,Si衬底、GaN缓冲层、AlGaN势垒层以及SiN钝化层由下至上依次层叠设置,源极的底部穿过SiN钝化层与AlGaN势垒层后与GaN缓冲层的第一端相接触,漏极的底部穿过SiN钝化层与AlGaN势垒层后与GaN缓冲层的第二端相接触,源极、漏极以及GaN缓冲层形成欧姆接触,栅极被SiN钝化层覆盖,并设置在源极与漏极之间的AlGaN势垒层上,栅极与AlGaN势垒层形成肖特基接触,空气桥场板的第一端设置在源极上,空气桥场板的第二端绕过栅极设置在SiN钝化层上。在不改变SiN钝化层的厚度来达到优化空气桥场板对表面电场的调制,提高耐压的目的。

著录项

  • 公开/公告号CN216488069U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-05-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 宁波海特创电控有限公司;

    申请/专利号CN202123011562.0

  • 发明设计人 施宁萍;周炳;翁加付;毛建达;

    申请日2021-12-02

  • 分类号H01L29/40;H01L29/778;H01L21/335;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 315500 浙江省宁波市奉化区经济开发区汇明路98号

  • 入库时间 2022-08-23 06:39:13

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-10

    授权

    实用新型专利权授予

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