公开/公告号CN216488069U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-05-10
原文格式PDF
申请/专利权人 宁波海特创电控有限公司;
申请/专利号CN202123011562.0
申请日2021-12-02
分类号H01L29/40;H01L29/778;H01L21/335;
代理机构
代理人
地址 315500 浙江省宁波市奉化区经济开发区汇明路98号
入库时间 2022-08-23 06:39:13
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2022-05-10
授权
实用新型专利权授予
机译: Si衬底上的增强型GaN基HEMT器件及其制造方法
机译: 兼容SI-CMOS工艺的Algan / GAN异质结HEMT器件及其制造方法
机译: GAN HEMT与SI CMOS的单积分