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水平式晶圆电化学沉积设备电化学液循环系统

摘要

本实用新型是水平式晶圆电化学沉积设备电化学液循环系统,其结构是副槽位于机架内一侧,溢流槽位于机架内另一侧上方且与副槽相通,溢流槽和副槽上方罩设有顶板,电化学沉积槽位于溢流槽内且顶部穿过顶板,电化学沉积槽侧壁设有与溢流槽相通的溢流口,电化学沉积槽底部中心设穿过溢流槽底部的进液排液口,进液排液口通过带有循环泵的循环管道连接副槽。本实用新型的优点:结构设计合理,电化学液体由副槽经过循环泵从循环管道由进液排液口泵入电化学沉积槽内并通电,对产品进行有效充分电化学沉积,处理时电化学液体可从溢流口溢流到溢流槽内,流回副槽。配合水平式晶圆电化学沉积设备,可实现电化学液的有效循环输送,改善了处理效果。

著录项

  • 公开/公告号CN215887272U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-02-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 无锡吉智芯半导体科技有限公司;

    申请/专利号CN202121150001.6

  • 发明设计人 李程;孙永胜;祁志明;李松松;

    申请日2021-05-27

  • 分类号C25D17/00(20060101);C25D21/10(20060101);C25D5/08(20060101);C25D7/12(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 214000 江苏省无锡市锡山区锡北镇优谷产业园75号

  • 入库时间 2022-08-23 05:01:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-06-06

    专利权的转移 IPC(主分类):C25D17/00 专利号:ZL2021211500016 登记生效日:20230524 变更事项:专利权人 变更前权利人:无锡吉智芯半导体科技有限公司 变更后权利人:吉姆西半导体科技(无锡)有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:214000 江苏省无锡市锡山区锡北镇优谷产业园75号 变更后权利人:214000 江苏省无锡市锡山区锡北镇优谷产业园45、51号

    专利申请权、专利权的转移

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