法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-07-20
授权
授权
2016-06-01
著录事项变更 IPC(主分类):H01S 3/10 变更前: 变更后: 申请日:20131105
著录事项变更
2016-06-01
著录事项变更 IPC(主分类):H01S 3/10 变更前: 变更后: 申请日:20131105
著录事项变更
2014-06-04
实质审查的生效 IPC(主分类):H01S 3/10 申请日:20131105
实质审查的生效
2014-02-05
公开
公开
机译: 产生激光束高次谐波的装置,使用相同光束的曝光装置,产生激光束高次谐波的方法,使用相同光束的曝光方法以及使用相同光束的器件制造方法
机译: 产生高次谐波X射线和使用高次谐波X射线的点衍射X射线干涉仪的装置和方法
机译: 高次谐波X射线发生装置及其产生方法,以及使用高次谐波X射线的点衍射干涉仪