一种微波离子源辅助的磁控溅射离子镀装置

摘要

本实用新型公开了一种微波离子源辅助的磁控溅射离子镀装置，包括设备架台、溅射靶座、真空炉体、分子泵以及谐振天线组件；真空炉体设于设备架台上，溅射靶座设于真空炉体外侧壁；分子泵连通至真空炉体一侧；谐振天线组件包括依次连接的功放器、微波监测器、第一波导、第二波导、谐振天线组以及短路棒；功放器的底面设于真空炉体上表面；谐振天线组与真空炉体的右侧壁贴合连接。本实用新型将功放的波导口径BJ26，借由波导再经由谐振天线设计与机构，将微波均匀地导入长矩形靶的磁控溅射设备；从而解决了微波等离子无法适用于长形磁控溅射设备的问题；有效的进行等离子辅助后氧化的技术。