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Microwave ion source, and the adjustment device of the microwave ion source

机译:微波离子源及微波离子源的调节装置

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microwave ion source in which the volume of a vacuum chamber for plasma generation is adjustable, and to provide an adjustment device therefor.;SOLUTION: A microwave ion source 10 comprises: a plasma chamber 11 including an inlet end 17 connected with a microwave waveguide 20, an outlet end 18 having an ion extraction aperture 21, and a sidewall 19 for connecting the inlet end 17 and outlet end 18, and having a fixed length in the axial direction from the inlet end 17 to the outlet end 18; a microwave introduction window 12 for partitioning a part on the ion extraction aperture 21 side of the plasma chamber 11 into a vacuum chamber 13 for plasma generation; and a positioning member for positioning the microwave introduction window 12 in a place separated from the inlet end 17 on the axial inside.;COPYRIGHT: (C)2014,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种微波离子源,在其中可调节用于产生等离子体的真空室的容积,并为此提供一种调节装置。解决方案:微波离子源10包括:具有入口的等离子体室11与微波波导20相连的端部17,具有离子提取孔21的出口端18,以及用于连接入口端17和出口端18的侧壁19,该侧壁在轴向上从入口端17到出口端具有固定的长度。出口端18;微波导入窗12用于将等离子体室11的离子提取孔21侧的一部分分隔成用于产生等离子体的真空室13。 ;定位构件,用于将微波导入窗12定位在轴向上与入口端17分开的位置。;版权所有:(C)2014,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP5955792B2

    专利类型

  • 公开/公告日2016-07-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 住友重機械工業株式会社;

    申请/专利号JP20130029404

  • 发明设计人 村田 裕彦;

    申请日2013-02-18

  • 分类号H01J27/16;H01J37/08;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 14:43:31

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