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一种单晶炉

摘要

本实用新型提供一种单晶炉,所述单晶炉包括:炉体,所述炉体内部具有中空腔室;坩埚,所述坩埚设置在所述炉体的腔室内部;防漏盘,所述防漏盘设置在所述炉体的腔室内部,并位于所述坩埚的底部;溢流液收集腔,所述溢流液收集腔设置在所述炉体的腔室外部;其中,所述防漏盘设有至少一个溢流孔,所述溢流孔与所述溢流液收集腔之间通过管道连通。本实用新型所提供的单晶炉能够极大提高设备应对溢流风险的能力,减少安全隐患甚至事故的发生,提高设备的稼动率。

著录项

  • 公开/公告号CN213476148U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-06-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西安奕斯伟硅片技术有限公司;

    申请/专利号CN202020673343.5

  • 发明设计人 不公告发明人;

    申请日2020-04-28

  • 分类号C30B15/00(20060101);C30B29/06(20060101);

  • 代理机构11243 北京银龙知识产权代理有限公司;

  • 代理人许静;陈丽宁

  • 地址 710065 陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室

  • 入库时间 2022-08-22 22:19:16

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