一种基于磁控溅射和电子枪蒸发的卷绕式光学镀膜装置

摘要

本实用新型公开一种基于磁控溅射和电子枪蒸发的卷绕式光学镀膜装置，包括直线式连接的多个真空室，位于两端的两个真空室分别为放卷室和收卷室，放卷室和收卷室之间至少设有一个磁控溅射镀膜室和至少一个电子枪蒸发镀膜室；当磁控溅射镀膜室和/或电子枪蒸发镀膜室有多个时，磁控溅射镀膜室和电子枪蒸发镀膜室交替设置。其方法是对基材交替进行磁控溅射镀膜处理和电子枪蒸发镀膜处理，实现镀氧化硅光学膜或镀氧化硅/氧化钛光学膜。本实用新型采用磁控溅射镀膜与电子枪蒸发镀膜相结合，可在保证膜层组织致密性的同时，使膜层与工件或基材之间形成较强的结合力，有效改善工件或基材的镀膜效果，提镀膜后产品的光学性能。