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蒸发镀膜机改制平面磁控溅射镀膜机的研制

     

摘要

1 磁控溅射机理为了克服二极溅射淀积速率低及基片温度高两大缺点,笔者在蒸发镀膜机二极靶的后面加适当形状的磁铁,使其在靶面形成水平磁场。这样,处于辉光放电阴极区的电子,同时受到电场力和洛仑磁力作用,作旋轮线运动,电子运动路径大大增加,碰撞电离机会增多,

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