由DM-450A型镀膜机改制的平面磁控溅射台

摘要

磁控溅射具有沉积速率高、基片温升低两个显著特点,目前,在国内得到了较大发展,并已应用于生产,科研各个领域。本文介绍了由北京仪器厂生产的DM-450A型镀膜机改制成的平面磁控溅射台,并对其性能进行了较详细的测试。