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用于一维和二维纳米材料的微型单轴应变施加装置

摘要

本专利公开一种用于一维和二维纳米材料的微型单轴应变施加装置,包括:行程升降台,压片,衬底支撑组件,行程升降台固定支架,平板底座。通过旋转行程升降台上的旋钮来控制行程升降台的高度,进而控制压片的高度,然后再搭配两个固定的衬底支撑组件可以对条形弹性衬底形成四点的应力施加方式,进而实现对条形弹性衬底施加单轴应变的效果。其中当样品贴附在衬底上表面时,施加单轴拉伸应力;当样品贴附在衬底下表面时,施加单轴压缩应力。另外行程升降台上标有数字刻度,可以直观地控制和记录压片升降的高度。因此本专利是一个操作简单、形变量均匀可控、应变效果优良的单轴拉伸或单轴压缩应力的施加装置。

著录项

  • 公开/公告号CN212539985U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2021-02-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院上海技术物理研究所;

    申请/专利号CN202020765060.3

  • 发明设计人 孙聊新;张健;朱莉晴;张波;陆卫;

    申请日2020-05-11

  • 分类号G01N3/20(20060101);G01N3/02(20060101);G01N3/08(20060101);

  • 代理机构31311 上海沪慧律师事务所;

  • 代理人郭英

  • 地址 200083 上海市虹口区玉田路500号

  • 入库时间 2022-08-22 19:40:27

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