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功率放大器芯片生产用接触式光刻机

摘要

本实用新型公开了一种功率放大器芯片生产用接触式光刻机,包括底板,底板的上表面固定有支撑柱,支撑柱的一侧表面上部固定安装有光刻主体,底板的上方沿水平方向活动安装有移动下板,移动下板的上方沿水平方向活动安装有移动上板,移动上板的上表面通过焊接固定有两个支撑块,两个支撑块的顶端通过焊接水平固定有安装板,安装板的底部沿水平方向活动安装有两个连接板,连接板的上表面两端均固定安装有支撑座,支撑座的顶端固定安装有托板,托板上安装有衬底晶片;该接触式光刻机的托板便于调节,可以对不同尺寸的衬底晶片进行装载光刻,适应性强,通过第一电机和第二电机可以对衬底晶片的位置进行调节。

著录项

  • 公开/公告号CN211403121U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2020-09-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 江苏传艺科技股份有限公司;

    申请/专利号CN202020279441.0

  • 发明设计人 邹伟民;陈世昌;

    申请日2020-03-09

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构34160 合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人杨润

  • 地址 225600 江苏省扬州市高邮市凌波路33号

  • 入库时间 2022-08-22 16:27:25

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