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一种基于化学气相沉积制备表面拉曼增强活性基底的方法

摘要

本发明实施例提供一种基于化学气相沉积制备表面拉曼增强活性基底的方法,所述方法包括:在硅片表面热蒸镀一层银薄膜;将蒸镀银薄膜后的硅片放入化学气相沉积CVD反应腔中加热至预置温度,使所述银薄膜“固态脱湿”以形成银纳米颗粒;在所述预置温度下通入反应气体,使所述银纳米颗粒表面均匀生长一层硅薄膜,形成核壳纳米球状阵列结构;将形成核壳纳米球状阵列结构的硅片于所述CVD反应腔中取出,在所述核壳纳米球状阵列结构的表面再热蒸镀预置厚度的银膜,即得到表面拉曼增强活性基底。本发明实施例使制备的活性衬底具有极高的SERS增强和灵敏度,制备工艺简单,重复性好,可大面积制备。

著录项

  • 公开/公告号CN104132921B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-06-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华南师范大学;

    申请/专利号CN201410321419.7

  • 发明设计人 张璋;刘利伟;高兴森;

    申请日2014-07-07

  • 分类号G01N21/65(20060101);

  • 代理机构11390 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人胡剑辉

  • 地址 510631 广东省广州市天河区中山大道55号

  • 入库时间 2022-08-23 09:42:53

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-28

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01N 21/65 授权公告日:20160622 终止日期:20180707 申请日:20140707

    专利权的终止

  • 2018-01-02

    著录事项变更 IPC(主分类):G01N21/65 变更前: 变更后: 申请日:20140707

    著录事项变更

  • 2018-01-02

    专利权的转移 IPC(主分类):G01N21/65 登记生效日:20171213 变更前: 变更后: 申请日:20140707

    专利申请权、专利权的转移

  • 2018-01-02

    著录事项变更 IPC(主分类):G01N 21/65 变更前: 变更后: 申请日:20140707

    著录事项变更

  • 2018-01-02

    专利权的转移 IPC(主分类):G01N 21/65 登记生效日:20171213 变更前: 变更后: 申请日:20140707

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-06-22

    授权

    授权

  • 2016-06-22

    授权

    授权

  • 2016-06-22

    授权

    授权

  • 2014-12-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/65 申请日:20140707

    实质审查的生效

  • 2014-12-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/65 申请日:20140707

    实质审查的生效

  • 2014-12-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01N 21/65 申请日:20140707

    实质审查的生效

  • 2014-11-05

    公开

    公开

  • 2014-11-05

    公开

    公开

  • 2014-11-05

    公开

    公开

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