一种插拔式高真空蒸发源

摘要

本实用新型涉及超高真空设备领域，特别涉及一种插拔式高真空蒸发源。一种插拔式高真空蒸发源，包括插拔式底座和蒸发源主体，蒸发源主体与插拔式底座插拔式连接，蒸发源主体设置有加热机构，加热机构下端设置有测温机构，蒸发源还包括屏蔽机构，屏蔽机构开合式置于蒸发源主体进料口的上方。本实用新型插拔式结构紧凑，方便蒸发源的安装和拆卸以及源材料的装填和更换，且便于加热丝的维护，单个蒸发源均设有加热机构和屏蔽机构，可在真空腔室内部安装有多个装有不同材料的蒸发源，实现在一个基板上依次镀多种不同的材料，简化多种材料的镀膜步骤，保证镀膜质量，满足超高真空环境下样品的蒸发需求，温控范围为50℃‑600℃，便于加工及推广使用。