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晶体管和形成晶体管以具有减小的基极电阻的方法

摘要

公开了一种晶体管结构(100),具有完全硅化的外基极以用于降低基极电阻Rt。具体而言,金属硅化物层(120)覆盖外基极(108),包括外基极的延伸于T形发射极(150)的上部(152)下方的部分。用于确保金属硅化物层(120)覆盖外基极(108)的该部分的一种示例性技术要求使发射极(150)的上部(152)成楔形。该楔形允许发射极(150)的上部(152)下方的牺牲层在处理期间被完全去除,由此暴露下面的外基极(108)并且允许硅化所需的金属层(120)沉积在其上。该金属层(120)可以例如使用高压强溅射技术来沉积,以确保外基极(108)的所有暴露表面,甚至在发射极(150)的上部(152)下方的表面,都被覆盖。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-15

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L21/02 授权公告日:20160706 终止日期:20190525 申请日:20120525

    专利权的终止

  • 2017-12-01

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L21/02 登记生效日:20171113 变更前: 变更后: 申请日:20120525

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-12-01

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L21/02 登记生效日:20171113 变更前: 变更后: 申请日:20120525

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-12-01

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/02 登记生效日:20171113 变更前: 变更后: 申请日:20120525

    专利申请权、专利权的转移

  • 2017-12-01

    专利权的转移 IPC(主分类):H01L 21/02 登记生效日:20171113 变更前: 变更后: 申请日:20120525

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-07-06

    授权

    授权

  • 2016-07-06

    授权

    授权

  • 2016-07-06

    授权

    授权

  • 2014-03-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20120525

    实质审查的生效

  • 2014-03-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20120525

    实质审查的生效

  • 2014-03-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/02 申请日:20120525

    实质审查的生效

  • 2014-02-05

    公开

    公开

  • 2014-02-05

    公开

    公开

  • 2014-02-05

    公开

    公开

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