公开/公告号CN210467766U
专利类型实用新型
公开/公告日2020-05-05
原文格式PDF
申请/专利权人 上海先方半导体有限公司;华进半导体封装先导技术研发中心有限公司;
申请/专利号CN201921982402.0
申请日2019-11-15
分类号
代理机构上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人张东梅
地址 200000 上海市浦东新区自由贸易试验区创新西路778号
入库时间 2022-08-22 13:44:37
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-05-05
授权
授权
机译: 冲击噪声降低装置和使用浮法地板结构来制造降低材料和地板结构的方法。
机译: 冲击噪声降低装置和使用浮法地板结构来制造降低材料和地板结构的方法。
机译: 催化反应性涂层,生产氨逃逸催化剂的方法,处理废气,降低废气流中一种或多种氨,氮氧化物,一氧化碳和碳氢化合物的浓度,还原氨,氮氧化物中的至少一种的方法,废气中的co和碳氢化合物,用于还原或氧化废气中的氨,nox,co和碳氢化合物中的至少一种,以降低废气流中氨,nox,co和thc的至少一种的浓度,用于降低发动机冷启动期间排气流中的NOx浓度,以及用于制备催化剂制品,排气系统和氨泄漏催化剂。