公开/公告号CN209980597U
专利类型实用新型
公开/公告日2020-01-21
原文格式PDF
申请/专利权人 天津良益科技股份有限公司;
申请/专利号CN201822219093.3
发明设计人 董娜;
申请日2018-12-27
分类号
代理机构天津市新天方专利代理有限责任公司;
代理人张强
地址 300350 天津市津南区滨海民营经济成长示范基地创意中心A座12B-117号
入库时间 2022-08-22 12:18:44
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-01-21
授权
授权
机译: 一种基于光的折射来获取和投影胶片的过程。
机译: 一种用于聚光的反射装置
机译: 用于形成防反射层的含硅组合物,该防反射层用于在形成抗蚀剂图案时控制曝光光的反射,包括硅的抗反射层的基质以及一种制图方法