光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置

摘要

本实用新型涉及一种光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置，用于调节光源的温度和功率，其特征在于，所述光处理装置的控制系统包括：光处理装置、温度控制模块和功率控制模块。上述光处理装置的控制系统、发光装置及硅胶表面处理装置使用温度检测单元和功率检测单元对光源的温度及功率进行检测，并通过温度控制单元和功率控制单元对温度调节单元和功率调节单元对光源的温度和功率进行调节，从而使光源维持在低温状态，对光源起到了较好的保护作用，也保证所处理产品表面满足要求的处理温度，从而提高所处理产品的高通过率，同时使光源辐射的紫外光线维持在要求的稳定数值，保证硅胶产品表面处理性能的一致性。