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基于光学劈尖干涉的纳米分辨率位移测量装置

摘要

基于光学劈尖干涉的纳米分辨率位移测量装置,包括为测量装置提供稳定的单色相干光源的激光器,激光器的输出激光以45度角对准分光装置的分光面,输出激光经的分光装置分成位于分光面两侧的第一光路和第二光路,第一光路与第二光路均垂直于的输出激光,第一光路对准劈尖干涉装置的玻璃劈尖;劈尖干涉装置的玻璃劈尖连接被测物体,待测物体放置在一个通过电压的变化来控制位移量的变化的位移平台上,位移平台连接稳压电源;第一光路的激光通过劈尖干涉装置在玻璃劈尖的上表面会形成干涉条纹,接着将干涉图像通过分光装置、第二光路传送至光学成像系统从而获得完整的激光干涉图像;光学成像系统的输出端连接数据处理系统。

著录项

  • 公开/公告号CN209559128U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2019-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江工业大学;

    申请/专利号CN201822174002.9

  • 申请日2018-12-24

  • 分类号

  • 代理机构杭州天正专利事务所有限公司;

  • 代理人王兵

  • 地址 310014 浙江省杭州市下城区潮王路18号

  • 入库时间 2022-08-22 11:06:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-10-29

    授权

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