一种常压多层气相反应炉

摘要

本实用新型公开了一种常压多层气相反应炉，包括用于放置镀件并进行气相反应的炉体，炉体内设有进气管和排气管，进气管左右横向放置并沿上下方向设有多个，上下相邻两个进气管之间形成用于放置镀件的反应层，并且上下进气管上相对镀件的位置分别设有一组朝向镀件的进气口，进气管的前后两侧分别设有排气管，排气管纵向设置，排气管上与每个反应层相对的位置处分别设有一组排气口，炉体内还设有用于分别给每个反应层加热的加热装置，常压多层气相反应炉还包括用于与每个镀件电连接并向镀件加载电磁场的磁场发生装置。本实用新型采用分层通气体，分层排气，分层温控，对多个镀件同时进行CVD反应，生产效率高，而且结构简单，造价低。