一种修饰TiO2纳米管阵列薄膜的磁控溅射装置

摘要

一种修饰TiO2纳米管阵列薄膜的磁控溅射装置，包括壳体，所述壳体内有壳体为边界围成有一工作腔，在所述壳体工作腔内由上至下依次间隔设有第一磁铁、靶材、基板以及调节基板位置的调节装置，所述调节装置安装于基板的底部，所述调节装置包括设置在工作腔底部的电机，所述电机的输出轴端连接有旋转板，所述旋转板上设有第二金属板、第二磁铁和若干个气缸，所述第二磁铁设置在若干个气缸形成的内侧且位于第二金属板的上端面上，若干个气缸的活塞杆端连接有基板，它具有成本低、效率高的优点，并且在镀膜过程中镀膜均匀克服了因镀膜不均匀导致的质量不合格的问题。