退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
公开/公告号CN208266264U
专利类型实用新型
公开/公告日2018-12-21
原文格式PDF
申请/专利权人 北京大学;
申请/专利号CN201820656285.8
发明设计人 郭峥山;蔡欣炜;吕肖圆;冯庆荣;
申请日2018-05-03
分类号
代理机构北京万象新悦知识产权代理有限公司;
代理人李稚婷
地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号
入库时间 2022-08-22 07:30:32
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-12-21
授权
机译: 用于制造气相沉积掩模的金属板,一种制造金属板的方法,气相沉积掩模,用于制造气相沉积掩模的方法,以及包括气相沉积掩模的气相沉积掩模装置。
机译: 用于气相沉积掩模的基材,一种用于制造用于气相沉积掩模的基材的方法,一种用于制造气相沉积掩模的方法,以及用于制造显示装置的方法。
机译: 一种气相沉积掩模,一种用于制造气相沉积掩模的方法,以及用于制造显示装置的方法。
机译:脉冲激光沉积与物理化学气相沉积混合法制备MgB_2薄膜中树突雪崩的比较研究。
机译:混合物理化学气相沉积法在柔性YSZ衬底上沉积多晶$ {rm MgB} _ {2} $薄膜
机译:通过混合物理化学气相沉积和优化的钙钛矿薄膜厚度的平面结构钙钛矿太阳能电池
机译:混合物理化学气相沉积法在碳化硅衬底上生长的MgB_2厚膜
机译:超导二硼化镁薄膜混合物理化学气相沉积的实验和模型研究。
机译:He / H2 / CH4 / N2混合物的微波等离子体化学气相沉积法沉积超光滑纳米结构金刚石(USND)涂层的合成及机械磨损研究
机译:通过混合物理化学气相沉积和离子铣削制备mgB2超薄膜
机译:一种从气相中研究放射性碳沉积的装置