一种纳米银离子真空高能束流电镀工艺

摘要

本发明公开一种纳米银离子真空高能束流电镀工艺，包括以下步骤：A、将银盐和保护剂加入水中，再加入碱性溶剂调节PH值，使PH值处于7.5～11；B、加入还原剂，加热搅拌反应得到纳米银离子；C、向真空室内通入一定压力的氩气，将基材在所述真空室内利用等离子体或离子源设备进行轰击处理；D、将步骤B得到的所述纳米银离子加入到所述真空室内，对所述基材进行真空磁控溅射，同时利用高能束流经透镜聚焦后投射到基材表面，完成电镀。本发明工艺简单，通过化学还原法制备得到纳米银离子，再通过真空磁控溅射将纳米银离子镀到基材上，高能束流经透镜聚焦投射到基材表面，使银离子渗透到疏松的基材内部，加速离子迁移，增加电镀速率。