公开/公告号CN207726884U
专利类型实用新型
公开/公告日2018-08-14
原文格式PDF
申请/专利权人 昆山纳诺新材料科技有限公司;
申请/专利号CN201721928173.5
发明设计人 吕鸿图;
申请日2017-12-21
分类号
代理机构
代理人
地址 215300 江苏省苏州市昆山市玉山镇五联路38号
入库时间 2022-08-22 05:59:45
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-08-14
授权
授权
机译: 用于CMP抛光的抛光体,CMP抛光装置,CMP抛光方法以及制造半导体器件的方法
机译: CMP的CMP抛光液CMP抛光液组及抛光方法
机译: 抛光头,具有抛光头的CMP抛光装置以及使用该抛光头的CMP集成电路的制造方法