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一种用于激光装置打靶精度测试的测试靶

摘要

本实用新型涉及一种用于激光装置打靶精度测试的测试靶,属于激光惯性约束聚变技术领域,所述测试靶包括靶面,所述靶面包括金箔层和碳氢膜层,所述金箔层共设2层,所述碳氢膜层位于2层金箔层之间,且激光装置发射的激光束同时呈对称式入射至金箔层表面,所述金箔层上设有多个第一凹槽和多个第二凹槽,所述第一凹槽和第二凹槽交错设置形成多个交叉点作为靶孔,所述第一凹槽和第二凹槽的槽深与金箔层的层厚相等,本实用新型采用金箔层、碳氢膜层、金箔层逐层堆叠的平面靶结构,各激光束可以同时打在测试靶的正反两面,能够在一次试验中完成甚多束激光束的打靶精度测试,节省打靶精度的测试时间,提高打靶精度的测试效率。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-12-06

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01M11/00 授权公告日:20180605 终止日期:20181211 申请日:20171211

    专利权的终止

  • 2018-06-05

    授权

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