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具有束流自动反馈控制的考夫曼离子源

摘要

现有考夫曼离子源,在真空镀膜时输出的离子束流受到阴极灯丝变化、工作气体扰动、真空室真空度变化等影响,比如随着阴极灯丝的热蒸发,阴极灯丝越烧越细导致输出离子束流逐渐减小,这时就需要人为调大阴极灯丝电压以保持束流的稳定。本实用新型设计了一种针对于离子束流变化的自动反馈调节电路,该电路采集输出束流的变化,将负反馈信号传递给阴极灯丝控制电路,当离子束流减弱时,适当增大阴极灯丝功率,而在离子束流增强时,适当减小阴极灯丝功率,从而使输出束流始终维持稳定。本实用新型的有益之处是,用自动反馈电路实时跟踪调整,使离子源输出束流保持稳定,从而使离子源辅助镀膜的光学薄膜结构稳定,改善光学薄膜的一致性和牢固度,也减少了镀膜过程中对离子源设备的人工干预。

著录项

  • 公开/公告号CN206672890U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2017-11-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海伟钊光学科技股份有限公司;

    申请/专利号CN201720376160.5

  • 发明设计人 刘杰;

    申请日2017-04-11

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 201822 上海市嘉定区复华路33号

  • 入库时间 2022-08-22 03:15:26

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-11-24

    授权

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