考夫曼型离子源工作稳定性研究

摘要

用于离子束辅助轰击镀膜的考夫曼型变孔戏球面栅离子源，由于缩小了体积，散热条件不好，离子源启动后温度迅速上长，陶瓷绝缘子的绝缘强度迅速降低，永久磁铁的磁场强度也下降，致使离子源的连续有效工作时间不足半小时。采用多处屏蔽后，延长了陶瓷绝缘子和磁棒处于较低工作温度的时间，合资离子源的连续有效工作时间达到了一小时，基本满足了辅助轰击镀膜的要求。