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确定反射表面的均匀度的系统、表面分析设备和系统

摘要

本专利申请涉及用于确定反射表面的均匀度的系统、确定设备外壳的表面的均匀度的系统、表面分析设备以及表面分析系统。确定反射表面的均匀度的系统包括:能够执行图像分析的计算设备;耦接到计算设备的光发射设备和光捕获设备,其中光发射设备被配置为将光图案发射到反射表面上,光图案包括限定形状阵列的多个断开连接的点,光捕获设备被配置为从反射表面接收反射光图案,计算设备被配置为对反射光图案执行图像分析,以便提供对反射表面的表面均匀度的估计,图像分析包括计算由反射光图案限定的多个反射多边形中的每个反射多边形的面积。

著录项

  • 公开/公告号CN206583415U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2017-10-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苹果公司;

    申请/专利号CN201490001536.9

  • 申请日2014-07-29

  • 分类号

  • 代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人李玲

  • 地址 美国加利福尼亚

  • 入库时间 2022-08-22 03:07:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-10-24

    授权

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