一种两次曝光准确对位设备

摘要

本实用新型公开了一种两次曝光准确对位设备，包括底片、定位条、辅助定位条、板体，所述底片一角设置有L型的定位条，所述底片另一端设置有辅助定位条，所述定位条和辅助定位条通过复数个磁扣固定在底片上，所述底片中部设置有图形区域，所述板体放置于图形区域，所述底片下方设置有透光孔，所述板体上设置有定位孔，所述透光孔与定位孔相对应。本实用新型的有益效果，本方案采用定位条和辅助定位条双重辅助定位，能够保证两次曝光位置相近，实现两次曝光高速、精确对位；同时采用磁扣结构，方便使用者安装更换底片和板体；同时通过微调模块替代之前的纯手工对位方式，不仅可以提高生产效率，还可以提高生产对位精度。