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一种基于反应离子束刻蚀技术制备薄膜有序微结构的方法

摘要

一种基于反应离子刻蚀聚合物制备有序薄膜图案的方法,属于有序微结构技术领域。具体是对基底及其表面的单层聚合物微球进行反应离子刻蚀,从而在基底表面形成有序薄膜图案,通过改变反应离子刻蚀参数可以调控薄膜图案。进一步再在此基底表面进行无电沉积,金属纳米粒子可以选择性的吸附在没有薄膜或者不致密薄膜的区域,进而形成金属纳米粒子的有序阵列。金属纳米粒子的有序阵列在拉曼检测、等离子体调控方面具有一定的应用价值。同时,由于所生成的薄膜表面具有官能团,因此可以应用于选择性自组装,以及酶、蛋白质的选择性吸附,在生物监测及传感方面也会有比较好的应用前景。

著录项

  • 公开/公告号CN104555910B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-05-18

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 吉林大学;

    申请/专利号CN201410854486.5

  • 发明设计人 吕男;李宁;滕飞;封雷;吴菲菲;

    申请日2014-12-31

  • 分类号

  • 代理机构长春吉大专利代理有限责任公司;

  • 代理人张景林

  • 地址 130012 吉林省长春市前进大街2699号

  • 入库时间 2022-08-23 09:39:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-12-21

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/02 授权公告日:20160518 终止日期:20171231 申请日:20141231

    专利权的终止

  • 2016-05-18

    授权

    授权

  • 2016-05-18

    授权

    授权

  • 2015-05-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):B82B3/00 申请日:20141231

    实质审查的生效

  • 2015-05-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):B82B 3/00 申请日:20141231

    实质审查的生效

  • 2015-04-29

    公开

    公开

  • 2015-04-29

    公开

    公开

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