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一种新型Wafer Bonding设备

摘要

本实用新型一种新型Wafer Bonding设备,属于晶元焊接设备领域;解决现有Wafer Bonding工艺技术中存在的生产效率低,设备故障率高,石墨配件损坏块,石墨材料消耗量大等问题;包括真空腔体,真空腔体内上、下壁上分别设置有上压力控制系统和下压力控制系统,上压力控制系统与真空腔体的前壁通过可伸缩连接轴活动连接,可伸缩连接轴驱动上压力控制系统上升和下降,真空腔体的外侧壁上依次设置有上微波发生器和下微波发生器,上、下微波发生器分别照射对应的上、下加热器,真空腔体的内侧壁上依次设置有上温度侦测器和下温度侦测器,上、下温度侦测器实时监控上、下加热器温度并与上、下微波发生器连接形成反馈调节系统。

著录项

  • 公开/公告号CN204632725U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2015-09-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 山西南烨立碁光电有限公司;

    申请/专利号CN201520187787.7

  • 发明设计人 李少辉;

    申请日2015-03-31

  • 分类号

  • 代理机构太原高欣科创专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人冷锦超

  • 地址 046000 山西省长治市城区北董新街65号

  • 入库时间 2022-08-22 00:48:06

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-09-09

    授权

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