一种用于清洗多晶硅还原炉的内表面的装置

摘要

本实用新型公开了一种用于清洗多晶硅还原炉的内表面的装置，包括：用于支撑多晶硅还原炉的支撑架、设置于支撑架上的用于对多晶硅还原炉的内表面通过清洗液进行清洗的清洗机构和设置于支撑架上的用于对多晶硅还原炉的内表面进行抛光的抛光机构。通过用于清洗多晶硅还原炉的内表面的装置对多晶硅还原炉内表面进行清洗和抛光后，多晶硅还原炉内表面呈镜面，此镜面态可保持90天，减少了多晶硅还原炉内表面的清洗次数，提高了多晶硅的生产效率。同时，提高了多晶硅还原炉内多晶硅生长过程中多晶硅还原炉内表面反射热量，降低多晶硅还原炉的电耗，从而降低了多晶硅的生产成本。该装置操作简单，易于维修保养，制造成本低，环保，适合推广。