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双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产设备

摘要

本实用新型提供了一种工作效率高、设计合理的双面消影氧化铟锡磁控溅射镀膜生产设备,包括机架,所述机架上依次设置有进口真空腔体、进口缓冲真空腔体、进口过渡腔体、工艺真空腔体、出口真空腔体、出口缓冲真空腔体和出口过渡腔体;所述机架上、贯穿上述腔体设置有触摸屏基片输送带;所述工艺真空腔体为9个,所述每个工艺真空腔体都布置有2对阴极,所述9个工艺真空腔体可布置18对阳极,所述18对阳极中,含有18对Nb2Ox阳极;或1到8对SiOx阳极;或1到6对Ito阳极;所述进口真空腔体内配备有1到2组低真空抽气系统;所述进口缓冲真空腔体和出口缓冲真空腔体内配备1到2组高真空抽气系统;所述工艺真空腔体内配备2到3组维持高真空抽气系统。本生产设备结构合理,功能先进,工作效率高,有利于推广使用。

著录项

  • 公开/公告号CN203960320U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2014-11-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 红安华州光电科技有限公司;

    申请/专利号CN201420224365.8

  • 发明设计人 郭爱云;

    申请日2014-05-05

  • 分类号

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 438400 湖北省红安县经济开发区新型产业园

  • 入库时间 2022-08-22 00:21:19

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-06-27

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C14/35 授权公告日:20141126 终止日期:20160505 申请日:20140505

    专利权的终止

  • 2014-11-26

    授权

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