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公开/公告号CN203018282U
专利类型实用新型
公开/公告日2013-06-26
原文格式PDF
申请/专利权人 王孝义;
申请/专利号CN201220724808.0
发明设计人 王孝义;
申请日2012-12-25
分类号
代理机构
代理人
地址 234000 安徽省宿州市萧县大屯镇土山行政村土山自然村171号
入库时间 2022-08-21 23:49:23
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-02-11
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B05C9/06 授权公告日:20130626 终止日期:20131225 申请日:20121225
专利权的终止
2013-06-26
授权
机译: 用于喷涂金属或重基体超孔涂层的真空喷涂装置
机译: 在真空中喷涂涂料的喷涂装置
机译: 通过真空装置喷涂银或其他金属来静态喷涂聚酯组成。
机译:真空等离子喷涂钨涂层作为托卡马克装置的等离子饰面材料的热机械计算
机译:真空等离子喷涂钨涂层作为托卡马克装置等离子表面材料的热力学计算
机译:光电装置真空喷涂方法分析聚合物薄膜制造 - 喷射梁和生产初始过程
机译:用真空喷涂Cu(111)表面与真空纳米管溶液的真空喷涂Cu(111)表面验证石墨烯纳米突出。
机译:真空等离子喷涂多晶硅的电学特性。
机译:真空等离子喷涂HfCTiC和HfC / TiC超高温陶瓷涂层的组织和力学性能
机译:真空喷涂装置
机译:冷和真空等离子喷涂Cu-Cr-X合金,Nial和NiCralY涂层的热物理性质。