法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-11-09
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G09B23/18 授权公告日:20130320 终止日期:20150914 申请日:20120914
专利权的终止
2013-03-20
授权
授权
机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用该部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译: 一种制备部分单次电子束曝光掩模的方法和一种使用部分单次电子束曝光掩模直接绘制图案的方法。
机译: 提供一种电子束装置,吸气片以及制造电子束装置吸气片的方法