制做薄膜致动反射镜阵列的方法

摘要

一种用于制做用于光学投影系统中的薄膜致动反射镜(401)的阵列的方法，该方法包括有步骤：设置一基底(310)；在该基底的顶上沉积一薄膜待除层；在该薄膜待除层上生成M×N空腔的一阵列；在该薄膜待除层包括这些空腔的顶上沉积一弹性层；将该弹性层构型成M×N弹性部件(335)的一阵列；在该基底上形成M×N开关装置(415)的一阵列；在各弹性部件和开关装置的顶上沉积一钝化层(340)和一蚀刻剂阻止层(350)；选择地去除该蚀刻剂阻止层和该钝化层以使这些弹性部件被暴露出；连续地在各弹性部件的顶上形成M×N第二薄膜电极(365)的一阵列和M×N薄膜电致位移部件(375)的一阵列；形成M×N第一薄膜电极的一阵列和接触部件的一阵列；去除该薄膜待除层，从而形成M×N致动机构的一阵列；用一待除材料覆盖该M×N致动机构的阵列；在该待除材料的顶上沉积一反射镜层；将该反射镜层构型成M×N反射镜的一阵列；及去除该待除材料，从而形成该M×N薄膜致动反射镜阵列。为了防止有源矩阵的热损伤，在本发明的方法中，在所有高温处理完成后，在基底(310)上形成M×N开关装置(415)的一阵列，进而减少了在该开关装置(415)的阵列上出现的热损伤的可能性。