首页> 中国专利> 电位移致动反射镜阵列的制造方法及采用其制造的电位移致动反射镜阵列的光学投影系统

电位移致动反射镜阵列的制造方法及采用其制造的电位移致动反射镜阵列的光学投影系统

摘要

用下述方法组装用在光学投影系统中的M×N块电位移致动的反射镜的一个阵列:1.制备两块全同的陶瓷板;2.在其上形成M条全同的沟槽;3.嵌接在一起构成一陶瓷块;4.研磨其上下表面形成一个复合陶瓷结构;5.分别在其下与上表面上提供M×N个信号电极与M+1个偏压电极;6.在一有源矩阵上安装复合陶瓷结构;7.在复合陶瓷结构上部形成M×N块反射镜的一个阵列;8.形成电连接从而形成M×N电位移致动反射镜阵列。

著录项

  • 公开/公告号CN1058575C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2000-11-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大宇电子株式社;

    申请/专利号CN94117144.2

  • 发明设计人 闵雇基;

    申请日1994-10-20

  • 分类号G02B26/08;H01L41/09;G03B21/28;

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人蹇炜

  • 地址 韩国汉城特别市

  • 入库时间 2022-08-23 08:55:02

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2004-12-15

    专利权的终止未缴年费专利权终止

    专利权的终止未缴年费专利权终止

  • 2000-11-15

    授权

    授权

  • 1997-01-22

    实质审查请求的生效

    实质审查请求的生效

  • 1996-03-27

    公开

    公开

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