一种去除率模型可控的磁流变均匀抛光装置

摘要

本实用新型涉及一种去除率模型可控的磁流变均匀抛光装置，属于光整加工领域。主轴电机由支架固连于z轴工作台上，齿轮通过联轴器与主轴电机相连，齿轮上的同步带与磁极相连，支架通过滚动轴承将磁极固连于z轴工作台上，集电环一端固定在悬梁臂上，悬梁臂与z轴工作台固定连接。优点是结构新颖，是磁流变抛光方法的核心工具，通过逆构磁极获得所需磁场分布，以获得抛光区域内均匀去除率的磁流变抛光技术路线，能够完成抛光作业。