公开/公告号CN201852445U
专利类型实用新型
公开/公告日2011-06-01
原文格式PDF
申请/专利权人 常州天合光能有限公司;
申请/专利号CN201020547743.8
发明设计人 蒋文曲;
申请日2010-09-29
分类号
代理机构常州市维益专利事务所;
代理人王凌霄
地址 213031 江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号
入库时间 2022-08-21 23:19:18
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-11-26
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):F27B17/00 授权公告日:20110601 终止日期:20130929 申请日:20100929
专利权的终止
2011-06-01
授权
授权
机译: 用于制造半导体的垂直扩散炉,能够改善在晶圆上制成的沉积膜的均匀性
机译: 增强胶片和基于胶片的扩散器的亮度,以改善显示的照明均匀性
机译: 用于光学装置的包装基质及其制造方法,能够通过减少光学树脂的扩散来改善光的均匀性